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完成248nm深紫外光刻胶成膜树脂及胶水中试技术研究。研制的248nm深紫外光刻胶分辨率达到0.25~0.13m的技术要求,并建成中试示范线。该公司于2016年底开始了开发半导体高端光刻胶的内部项目,并于2017年开始基础研发工作。正如这篇文章所证明的那样,下周一开始可能会出现一波攻击。飞黄满豆的钟馗07-24 01:08 我是新手,各位老板们,我应该卖的价格高于21.47还是高于19.91呢?

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2016年IPO在创业板上市,投资项目包括年产3500吨PCB湿膜光刻胶;近期,该生产线扩建至5000吨面板TFT阵列正抗蚀剂项目,并已投入试生产。

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